可测量薄膜折射率、反射率、透射率的光学膜厚仪

产品特征：
· 易于安装
· 基于视窗结构的软件，很容易操作
· 先进的光学设计，以确保能发挥出最佳的系统性能
· 基于阵列设计的探测器系统，以确保快速测量
· 独特的光源设计，有着较好的光源强度稳定性
· 最多可测量5层的薄膜厚度和折射率
· 在毫秒的时间内，可以获得反射率、透射率和吸收光谱等一些参数
· 能够用于实时或在线的厚度、折射率测量
· 系统配备大量的光学常数数据及数据库
· 对于每个被测薄膜样品，用户可以利用先进的软件功能选择使用NK数据库、也可以进行色散或者复合模型（EMA）测量分析；
· 可升级至MSP（显微分光光度计）系统，SRM成像系统，多通道分析系统，大点测量。
· 通过模式和特性结构直接测量。
· 提供的各种配件可用于特殊结构的测量，例如通过曲线表面进行纵长测量。
· 2D和3D的图形输出和友好的用户数据管理界面。

系统配置
型号：SRT100
检测器：双通道CCD阵列的每个像素2048
光源：氘灯和高功率卤素灯
光传输：光纤
载物台：黑色铝合金样品测量平台轻松调整高度，100mmx100mm尺寸
通讯：USB
测量类型：薄膜厚度，反射光谱，透射光谱，折射率
软件：TFProbe 2.3
电脑需要：常规配置
电源：110 - 240伏交流电/ 50 - 60Hz的，1.5A
保修：1年

产品规格
波长范围：250nm到1100 nm
光斑尺寸：500μm至5mm
样品尺寸：100mmx100mm
基板尺寸：最多可至50毫米厚
测量厚度范围*：5nm-50μm
测量时间：最快2毫秒
精确度：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）
重复性误差*：小于1A

产品应用:
半导体制造（PR，Oxide, Nitride..)
液晶显示（ITO，PR，Cell gap... ..）
医学，生物薄膜及材料领域等
油墨，矿物学，颜料，调色剂等
医药，中间设备
光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
半导体化合物
在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜
非晶体，纳米材料和结晶硅