1)主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,扩散前的绒面腐蚀和清洗。
2)工艺流程:
上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋
→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线)
3)设备采用龙门式机械手方式移动,其工艺时间可以自行调节,酸碱槽具有自动
补液装置,可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线,及各个工位
的工作状态。具有设备报警说明,报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率
监测装置,能存储10个以上工艺方案;
4)标准工艺下产量:125mm×125mm、156mm×156mm、 210mm×210mm的硅片,适
用于投产厚度为160±30~200±30微米的硅片,硅片产能不低于1200片/小
时,设备开工率>92﹪,碎片率≤3‰。
2)工艺流程:
上料→HF+HNO3腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→KOH腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋
→HCl腐蚀→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干(离线)
3)设备采用龙门式机械手方式移动,其工艺时间可以自行调节,酸碱槽具有自动
补液装置,可实现无间断生产。能显示温度曲线、浓度变化曲线,及各个工位
的工作状态。具有设备报警说明,报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率
监测装置,能存储10个以上工艺方案;
4)标准工艺下产量:125mm×125mm、156mm×156mm、 210mm×210mm的硅片,适
用于投产厚度为160±30~200±30微米的硅片,硅片产能不低于1200片/小
时,设备开工率>92﹪,碎片率≤3‰。
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