单晶圆清洗设备:该设备适用于薄晶圆(到80 μm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不受损毁。
公司联系方式
- 华林伟业(北京)太阳能光伏事业部 [加为商友]
- 联系人王丹丹(女士) 市场销售
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