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产品特性：
紫外到近紅外光范围的反射光谱，适用用于多层膜测量及光学常数分析的光干涉式膜厚测量仪。
非接触式、不破坏样品，高精度，高再現性。
190nm~1600nm的范围波長分析。
1nm~250μm薄膜厚度测量。
可对应显微镜下的微小测量范围。
测量项目：
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绝对反射率分析 |
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多层膜膜厚解析 |
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光学常数解析（n:折射率，k:衰減系数） |
应用范围：
■ 平面显示器
液晶显示器、导电薄膜、OLED
■半导体、化合物半导体
矽半导体、激光半导体、強导电、介电常数材料
■数据储存材料
DVD、录影机读取头薄膜、磁性材料
■光學材料
滤光片、抗反射膜
■薄膜
抗反射膜
■其它
建筑用材料
规格样式：
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标准型 |
厚膜对应型 |
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膜厚测量范围 |
1 nm ~ 40 μm |
0.8 ~ 250 μm |
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波长测量范围 |
190 ~ 1600 nm |
750 ~ 850 nm |
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感光元件 |
光电二极管阵列512ch |
矩阵型CCD影像感測器512ch |
光电二极管阵列512ch |
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光源規格 |
D2/I2（紫外-可視光）、D2（紫外光）、I2（可視光） |
I2（可視光） |
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电源規格 |
AC100V±10V 750VA（自动驱动平台分） |
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尺寸 |
481（H）×770（D）×714（W）mm（主体部分） |
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重量 |
約96kg（主体部分） |
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测量实例：
