ARL QUANTRIS高性能CCD金属分析仪 光谱仪 直读光谱

产品名称：高性能CCD金属分析仪

产品型号：ARL QUANTRIS

单价咨询：400-000-2878

产品说明

ARL QUANTRIS高性能CCD金属分析仪简介

金属分析领域的领先者-Thermo
在长达70多年的发展中,Thermo(前ARL)不断率先推出创新的光谱仪技术和具有独创性的仪器,推动了世界光谱技术的发展.Thermo始终以技术和信誉占居世界光谱仪的主要市场,其仪器以技术先进,稳定,可靠,耐用而著称于世.从而铸就了Thermo在光谱分析领域中牢因的领先者地位
ARLQUANTOMETER是1940年用于金属产品控制的首台直读光谱仪.随后,Thermo又生产出每一台分析CNS的光谱仪.ARLQUANTOMETER的生产历史长达30年,它的成功和广泛应用最终使其成为一个通用的名词(Quantometer-光谱分析仪,光电直读仪)
Thermo在光谱仪技术上取得了一系列的突破,最新推出的采用高性能CCD技术的高端产品ARLQUANTRIS具有检测限低和稳定性好特点.而且能免灵活分析各种金属样品中的合金元素和微量元素,如钢铁,铝合金,铜合金等.此外,ARLQUANTRIS是每一台能够分析低碳,低硫,低磷和低氮的CCD学谱仪.该仪器既具有CCD技术的优势(灵活性高,仪器外形小巧),又具有较高的分析性能.
全谱波长范围覆盖从129至780nm,包含了金属行业全部所而分析元素.
三个独立的分光室提供了全波段光谱,在各个组件中分别使用特制的透镜,光栅和CCD涂层,以获得最好的集光效果.
三个分光室全部彩光传输准备率最高的直读方式工作,而不使用光纤(光纤会降低分析性能,而且每隔一段时间需要更换).
所先用的CCD系专门为工业,科学与军事用途而设计的
第一台彩霞专得电流控制光源(CCS)的CCD光谱仪,这种光源在各种基本分析中具有最佳分析性能.
金属产品质量控制的可靠设备
ARLQUANTRIS有心脏部分真空型分光室由铸铁整体浇注而成,坚因耐用,提供了无可比似的短期和长期稳定性.
电制冷技术,将CCD的温度控制在5±0.50C以内,降低了测量噪声,提高了稳定性.
水冷激发台进一步增强了分析稳定性,
自动光学光学调整与谱线描迹减省了仪器漂移与校正次数。
上述设计，使该仪器除了用于实验室应用外，还能广泛用于炉前环境。

主要特点

●分析应用覆盖面广泛
●在有新的分析需求时，仪器在增加新的分析任务上所花费的停机时间短，
●分析金属中微量和主量元素都具有杰出的性能
●突出的分析稳定性减少了仪器漂移校正的时间，省出更多的时间用于分析生产样品和其它样品，同时也减少了价格昂贵的标准样品的消耗。
●稳定睥分析系统日复一日，年复一年地提供快速，准确的分析结果，也有效地保证了高水平的劳动生产率。总的来说，在温长的仪器使用周期里，分析成本是相当低廉的。
●与传统仪器相比，不受通道及基体限制。
交钥匙模式
作为最常见的应用，ARLQUANTRIS采用交钥匙方式，该系统在出厂前就已预先配置和校准确性完毕：
●Thermo推荐分析程序，分析元素和所需的校准。
●也可按用户需求，增加选项元素和校准。
准确度是真读光谱最重要的特性之一，取决于仪器的校准状况。用ARLCARL校准程序（一种能够校准基体干扰和谱线干扰的多变量回归软件工具）完成的工厂校准，保证了最高准确度的获得。
带有CARL仪器可大安装的当天就能直接用来分析试样。
水冷激发台保证了分析的高稳定性，符合EN61010-1安全标准。便函于拆卸的结构，能使火花架的清理在5分钏内完成，激发样品产生的光直拉进入分光室，不使用光纤，因此不存在分析性能随时间下降和需要定期更换光纤的问题。
每个CCD检测器有8640个像素，每个像素的面积为7×9.8um,像素之间的间隔7um,检测器的温度严格控制在5±0.50C以内,保证了低器声与高稳定性,在VUV紫外分光室内,用有特殊涂层的CCD,改善分析灵敏度.
ARLQUANTRIS采用了通溃只在高端光谱仪ARL4460才使用的CCS光源.电流波形由计算机控制,造用于各咱类弄金属的分析.
WinOE分析软件
WinOE分析软件在我们常规的仪器上已使用十多年,通过定期的版本更新,已逐渐成为直读光谱仪分析金属的最强大,可靠和方便的分析应用软件.
WinOE完全支持新的ARLQUANTRS.
主要功能
●图形化的用户界面InternetExplorer实现导引,操作和显示
●未知样品的常规分析
●通过软件快捷方式,迅速进入分析程序
●自动分析程序选择
●多变量回归,用于确定校正曲线
●外部结果的手动输入
●灵活的结果显示和打印
●质量检查和质量分类
●结果重新计算,避免不必要的样品重新分析
●结果贮存和简单的后处理,输出到Excel等
●在线SPC-Basic仪器控制
●仪器标准化
●类型标准化
●通过仪器警报和状态图表显示仪器控制结果
●灵活的样品定义
●用户权限的密码保护
●软件和仪器配置工具
WinOE软件选择项
●在线Spark-DAT
●ARLnet:LAN网络结果传输软件包
●通过LAN网络的远程样品定义
●Sentry：样品输放软件
●ComPAC:通过串行线将结果传达室输到远程计算机
●Remote:通过串行线将结果传输到远程终端
●DIA-Montor：分析结果在远程计算机上显示软件

Exan：接收外部燃烧分析仪结果
Metaverage：分析平均
Charge:炉料修正计算
SPC-Full:全图象统计过和控制软件包
Report：以Thermo或用户定义的格式生成打印报告
DIA2000:分析结果数据库和后处理软件包

技术参数

光谱仪：直空型，多达三个平面光学分光室，并带有各自的入射狭缝，光栅和因态电子检测器件
焦距：200mm
VUV分光室：波长范围129-200nm
基本分光室：波长范围200-410nm
可选择的碱土
金属分光室：波长范围410-780nm
入射狭缝宽度：15um
检测器类型：每个分光室装有一个CCD检测器，3×8640像素VUV波段分光室所用的CCD表面涂有磷光物质CCD采用电制冷，温度控制在5±0.50C
像素:在7um间距内,光电二级管7×9.8um
光栅类型:象差校正凹面光栅，刻线分别为590gr/mm，1105gr/mm和3240gr/mm
平均分辨率：VUV分光室8pm/像素，基本分光室24pm/像素，碱土金属分光室43pm/像素
样品台：冲氩，带自循环水冷去系统
光源
类型：专得的电流控制光源（CCS）

峰值电流：可编程，最大250A平台电流：可编程，在13us步长内最大30A
频率：最高1000Hz
仪器控制：基于Intel386EX和NetSiliconNet+50处理器的Thermo微控制器板
软件：在Windows平台下动行的WinOE
机壳：带大能力冷却风扇的内置防尘保护
环境要求
环境温度：10-280C
相对湿度：20-80%
电压：220V±带保护接地单相电源（如果波动超过±10%，需要配备2.5VA的稳压器）
电流:7A,包括PC机,显示器和打印机
频率:50或60Hz
接地电阻:<1Ω
氩气:>99.996%,氧含量≤5ppm(高硅样品氧含量≤2ppm)
>99.9997%,(分析低碳,氮和氧时),否则必须安装氩气净化器
消耗
功率:最大1.3KVA
执行尺寸:98/37/EC机械
73/23EEC低压材料
89/336/EEC电磁兼容性
尺寸与重量：外形尺寸:1000×780×1190mm(包装尺寸:1210×920×1400mm)
重量：330kg
辅助设备:氩气净化系统
稳压电源或不间断电源(URS)