是否提供加工定制: | 是 | 品牌: | 日本岛津 | 型号: | PDA-5500S |
光源: | 水平氩气保护激发态 | 波长范围: | 120~589nm(nm) | 外形尺寸: | W1460 × D540 × H120mm(mm) |
重量: | 500kg(g) | 适用范围: | 钢铁专用机型,可分析碳素钢、中低合金钢、不锈钢,工具钢及铸铁等 | | |
PDA-5500S特点 高精度与稳定性相结合,有力地支持品质管理分析标准配置岛津独创的PDA测光法(脉冲分布测光法)根据分析范围、分析元素选择最佳放电条件采用新型发光台,提高稳定性配置高真空直联旋转真空泵,提高分析稳定性科学人性化的设计,易懂易用中文化操作系统,实现理想的操作平台标准配置对电极自动清洗功能,软件自动设置,操作便捷良好的扩展功能,高瞻远瞩满足未来分析需求低使用成本的设计,经济实用可配置氩气节流器,降低使用成本PDA-5500S用途.分析范围/原理/构成PDA-5500S用途.分析范围◆ 钢铁专用机型,可分析碳素钢、中低合金钢、不锈钢,工具钢及铸铁等。◆ Al基机型,可分析铝硅合金、铝硅铜合金、铝铜合金、铝锌合金、铝镁合金等。PDA-5500S分析原理光电发射光谱分析是给予金属试样电能,激发蒸发、气化的原子,使用分光器对此时产生的元素特有的光谱进行分光,使用检测器(光电倍增管)测定它的有无和强度,进行定性、定量的分析。PDA-5500S构成光源部:在激发台中对电极与试样之间产生火花放电,将试样中元素的光谱导入分光部。分光部:分离和选择元素特有光谱线,同时还包括将此关信号转换为电流信号的传感器。测光部:测定所得的光电流。数据处理部:解析和处理测定的数据。
1、技术参数: 分光系统: 分光装置:凹面全息离子刻蚀衍射光栅帕邢--龙格装置 温度控制:40±0.1℃ 真空系统:直连形旋转真空泵 *光源系统 水平氩气保护激发态 激发电压:500V/300V软件设置自动转换 激发频率:可设置3种放电频率,40-500Hz范围内 激发条件:6种类型 对电极清洗:每次放电结束时自动清洗 *测光系统 光电倍增管检测器 *数据处理系统 Windows XP 2主要特点: *岛津PDA-5500S型光电发射光谱仪,钢铁专用机型,可分析碳素钢、中低合金钢、不锈钢、工具钢及铸铁等。岛津PDA-5500系列光电光谱分析仪分为PDA-5500Ⅲ/S二个型号。其中 PDA-5500Ⅲ广泛地用于铝合金行业,应用于冶炼工艺过程以及机械加工工艺的管理分析。PDA-5500S广泛地用于钢铁和铸造行业,应用于冶炼工艺过程以及机械加工工艺的管理分析。 *高精度与稳定性相结合,有力的支持品质管理分析 *科学人性化的设计,易懂易用 *良好的扩展功能,高瞻远瞩 *低使用成本的设计,经济实用、 3、仪器介绍 1、PDA-5500 S型光电发射光谱仪,继承岛津光电发射光谱仪的精华,标准配备岛津独创的时间分解PDA(Pulse Distribution Analysis脉冲分布分析)测光法,可以同时快速、准确地分析金属的元素组成,是金属质量管理分析中应用广泛的分析仪器。 2、可广泛应用于钢铁、铸造、有色、汽车、机械等众多行业,提高对冶炼工业和机械加工工业的工程管理分析、原材料验收及产品出厂鉴定分析等能力。 3、高精度的仪器 PDA测光法从微量到高含量的元素均可进行高精度的分析。高稳定性的仪器 采用6毫米电极,自动清洗电极尖端的蒸发物,高精度的恒温系统。最优化的激发条件结合时间分解测光法提高灵敏度。 内标监控法消除因样品的缺陷而引起的分析误差。 4、(PDA-5500S)元素的不同状态分析法,酸溶铝(solAL)和酸不溶铝(insolAL)以及其他元素的不同状态的分析。 (PDA-5500S)高稳定性的光源装置,两种激发电压和三种激发频率软件设置,无需调整硬件即可调用,标准配置五种光源条件,可以组合成三十多种激发条件,适合各种金属的分析。 5、(PDA-5500Ⅲ)高稳定性的光源装置,标准配置五种光源条件,配备有色金属专用的激发光源,三种激发频率软件设定。 6、完善的维修服务系统和技术服务系统,保证仪器的长期可靠的运行。 4、分析范围: 1、(PDA-5500Ⅲ)铝合金、铝硅合金、铝硅铜合金、铝铜合金、铝锌合金、铝镁合金等 2、(PDA-5500S)中底合金钢、碳素钢、合金钢、铸铁、合金铸铁、球墨铸铁、稀土球墨铸铁等 5.、主要技术指标 1分光系统:分光装置凹面全息离子刻蚀衍射光栅帕邢-龙格装置波长范围120~589nm 衍射光栅凹面光栅曲率半径:600mm刻线数:2400条/mm 2光源系统:激发电压500V或300V(软件设置自动转换)激发条件5种类型激发频率可设置3种放电频率(均可在40~500Hz范围内软件设置自动转换)发光台水平型氩气保护发光台对电极清洗每次激发结束时自动清洗
3设置场所的环境要求: 面积:大约3×2 m以上 温 度:10℃~30℃每小时变化<5℃ 湿度:80﹪以下 参考:装置的发热量大约为1100kcal /小时 氩气:纯度需要99.995%以上最大含氧量<5ppm,分析高硅时,最大含氧量<2ppm。 电 源:单相:200V,220V,230V,240V±10﹪50/60Hz 4.0kVA,地线:单独地线<30Ω,干燥地区建议<10Ω 主机外型尺寸:W1460 × D540 × H120mm。重量:约500kg |
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