适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点,并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配无油真空泵一起使用。经过20多年的发展,目前产品占国内市场的70%以上。 目前的型号有KW-4A型和KW-5型。
产品主要特点:
1、开关电流调速,稳定性能更好,转速调节以数字显示为准。
2、转速在500~8000转/分范围内非常稳定。
3、采用双转速。在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动转换到高速运转。两种转速及相应的时间分别可调,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟。
4、具有定时功能。
5、测速采用光电的办法,产生光电脉冲,由晶体分频测速准确性高。
6、"吸片"采用电磁阀控制气路,一个气泵可同时带几台匀胶机工作,适合流水线的工艺,提高了效率。
7、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音低。
产品主要特点:
1、开关电流调速,稳定性能更好,转速调节以数字显示为准。
2、转速在500~8000转/分范围内非常稳定。
3、采用双转速。在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动转换到高速运转。两种转速及相应的时间分别可调,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟。
4、具有定时功能。
5、测速采用光电的办法,产生光电脉冲,由晶体分频测速准确性高。
6、"吸片"采用电磁阀控制气路,一个气泵可同时带几台匀胶机工作,适合流水线的工艺,提高了效率。
7、在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音低。
公司联系方式
- 中国科学院微电子研究所 [加为商友]
- 联系人秦威(先生)
- 地区北京
- 地址北京市朝阳区北土城西路三号
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