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晶体 |
纯度(%) |
粒径 |
比表面积 |
晶型 |
合成方法 |
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TiO2(A) |
>99.5 |
15～30 |
100 |
晶型 |
溶胶-凝胶法 |
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TiO2(R) |
>99.5 |
80～100 |
10 |
晶型 |
溶胶-凝胶法 |
|
ZnO |
>99.5 |
20～30 |
90 |
晶型 |
溶胶-凝胶法 |
|
SiO2 |
99.5> |
10～20 |
650 |
无定型 |
溶胶-凝胶法 |
|
Al2O3 |
>99.5 |
30～40 |
20～30 |
各种晶型 |
溶胶-凝胶法 |
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Si3N4 |
Si3N4>99% |
≤50nm |
>109 |
无定型 |
等离子体化学气相沉积（PCVD） |
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β-SiC |
SiC>95% |
≤50nm |
>109 |
晶型 |
等离子体化学气相沉积（PCVD） |
|
β-SiC |
SiC>95% |
≤30nm |
>109 |
晶型 |
激光法 |
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ZrO2 |
>99.5 |
≤100nm |
|
晶型 |
溶胶-凝胶法 |
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