高真空离子溅射仪（离子计/电化学分析仪)

主要特点

● 全自动控制
● Peltier冷却溅射头
● 精细镀层（0.5nm Cr粒子）
● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置
● 薄膜沉积（典型为5nm）
● 直径为165mm腔室
● 可选双溅射头
● 可接膜厚测控仪

仪器介绍

K575X使用“涡轮”泵，前级为旋转机械泵，整个抽真空过程为自动控制。
真空度可调整，以适应铬或其它易氧化金属，以及金靶等不同材料要求，定时器可设置成不同的溅射时间。
本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。
溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。
溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。
K575D（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。
注：K575D技术规格与K575X相同，但它有双头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575D（双头）单元。

优点
● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬（Cr）或铱(Ir)
● 应用范围广，除了可选溅射常用金属靶材如：金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外，还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO（氧化铟锡）靶等特殊靶材
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率，可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载
● 不需要打开真空即可进行顺序涂层
● 沉积厚度可预设